30
年+
创新驱动
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先进技术
产品领先与技术创新，是先为科技持续发展的生命力。
先为科技依托于先导集团的强大产业背景，建立了一支高水平的、高专业化、高标准化的技术研发团队，秉承技术引领与自主创新的发展理念，坚持创新驱动，
实现GaN MOCVD/SiC-Epi设备的自主核心技术领先。
核心研发人员研发经验
60
%+
硕博研发占比
50
%+
研发人员占比
顶尖技术团队
拥有来自日本的核心研发技术团队，团队核心成员具有平均 30+年的丰富半导体设备研发及产业化经验，曾作为核心成员向知名半导体企业提供 GaN MOCVD/ SiC-Epi量产设备。
1
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自主知识产权
GaN MOCVD/SiC-Epi设备是化合物半导体关键设备，设备、工艺技术复杂，长期受国外品牌垄断；先为科技是国内该稀缺资源的供应商，拥有独家专利的自公转基座及喷淋头技术等。
2
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核心技术优势
自主的核心技术设计
优异的流场及温场一致性及稳定性
特殊的结构更利于改善缺陷及提升稼动率
高质量、低缺陷、高产出
产能、良率优于进口设备
优异的流场及温场一致性及稳定性
特殊的结构更利于改善缺陷及提升稼动率
高质量、低缺陷、高产出
产能、良率优于进口设备
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80
+
荣誉资质
技术专利
先为持续投入技术研发，实现了化合物半导体的多项技术突破与领先， 拥有新型专利、外观设计专利、软件著作权多达70+ 项。
发明专利
新型专利
软件著作
旋转轴固持装置及薄膜气相沉积设备
晶片校正机构及半导体制造设备
品圆反应装置及具有其的半导体制造设备
晶片校正机构及半导体制造设备
基座结构及成膜装置
服务创新
先为科技始终坚持以客户为中心的服务理念，建立本土化售前售后团队，积极引进国际人才，
为客户提供量身定制的全方位服务，持续帮助客户优化系统性能，减少成本，以创新服务快速响应市场需求。
