SiC Epi外延设备-先为科技

技术特点

适用于6”&8”的全自动碳化硅外延生长设备

独特的进气与加热方式;优异的温场及流场表现

精准实时的机台状态监控,工艺稳定性高

可实现低成本、高质量、高产出的外延生产;目前市场上最高的单机产能,整体性能优异

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其它定制开发设备

公司以现有技术为基础，不断集聚半导体优秀人才，围绕国产化替代的战略需求，结合化合物领域最前沿的技术发展趋势和市场需求，

为客户提供合作开发的服务，从而为客户提供全方位的解决方案。