荣获年度品牌奖项,先为科技精彩亮相IFWS&SSLCHINA2024
发布时间:2024 / 11 / 22

年度第三代半导体行业盛会,第十届国际第三代半导体论坛&第二十一届中国国际半导体照明论坛(IFWS&SSLCHINA2024)11月19日在苏州开幕。


先为科技作为"第三代半导体产业技术战略联盟“的理事单位应邀参展,展示了公司的品牌形象与差异化优势地位。大会当天,先为科技荣获外延生长设备“年度推荐品牌”的荣誉,充分肯定了先为科技在化合物外延设备领域的贡献。


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作为国内领先的化合物外延设备制造商,先为科技携BrillMO GaN MOCVD和BriSCore SiC Epi两款产品亮相A26号展位。先为科技具有完全自主知识产权的外延设备,以其成膜质量高、产能高、使用成本低的产品特点,吸引了众多专家与观众前来交流。


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第三代半导体在诸多领域中扮演着重要角色,应用需求的扩展,也对第三代半导体技术提出了更高的要求,推动技术不断进行技术创新和突破。为期三天的行业盛会,来自产业链不同环节的百余位专家分享精彩报告,全面追踪第三代半导体产链技术前沿进展趋势,把握全球技术脉动走向。


展望未来,先为科技将始终致力于科技创新,持续推出更多化合物半导体设备,进一步推动国内化合物半导体产业战略发展规划。


其它定制开发设备
公司以现有技术为基础,不断集聚半导体优秀人才,围绕国产化替代的战略需求,结合化合物领域最前沿的技术发展趋势和市场需求,
为客户提供合作开发的服务,从而为客户提供全方位的解决方案。
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