10月30-31日，由宽禁带半导体国家工程研究中心主办的“2024化合物半导体先进技术及应用大会”在江苏·常州新城希尔顿酒店盛大召开。先为科技作为聚焦化合物外延设备的制造企业应邀参展，充分展示了公司的品牌形象与差异化优势地位。

作为国内领先的化合物外延设备制造商，先为科技携BrillMO GaN MOCVD和BriSCore SiC Epi两款产品亮相C29号展位。先为科技具有完全自主知识产权的外延设备，以其成膜质量高、产能高、使用成本低的产品特点，吸引了众多专家与观众前来交流。

展望未来，先为科技将始终致力于科技创新，持续推出更多化合物半导体设备，进一步推动国内化合物半导体产业战略发展规划。

关于先为科技

无锡先为科技有限公司是先导集团布局的一家专注于化合物半导体外延设备研发、制造与销售的创新型和科技型企业。作为先导集团在集成电路装备领域的重要布局和关键企业，先为科技引入日本顶级核心技术，整合产业优质资源，凭借着差异化战略的竞争优势，不断推动化合物半导体产业链的国产化进程。先为科技将始终秉承“为客户创造价值，成就客户”的使命，致力于化合物半导体领域的创新与发展，强化产业链上下游合作共赢，以产品升级和技术创新助力化合物半导体的高质量发展。